Implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering Rf

dc.contributor.advisorPuerto Leguizamón, Gustavo Adolfospa
dc.contributor.advisorJiménez Borrego, Luis Camilospa
dc.contributor.authorFuentes Gamboa, Camilo Andresspa
dc.contributor.authorSerrato Pinzón, Dilan Gabrielspa
dc.date.accessioned2018-01-25T20:10:52Z
dc.date.available2018-01-25T20:10:52Z
dc.date.created2017-11-21spa
dc.descriptionDescripción del proceso de implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople entre una fuente RF y un plasma de descarga para un proceso de pulverización catódica, sputtering RF.spa
dc.description.abstractDescription of the implementation process of a supervision and control system of the coupling unity between a RF source and a discharge plasma for a sputtering RF process, using Labview.spa
dc.description.sponsorshipPontificia Universidad Javerianaspa
dc.format.mimetypepdfspa
dc.identifier.urihttp://hdl.handle.net/11349/7375
dc.language.isospaspa
dc.rightsAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacional*
dc.rights.accesoAbierto (Texto Completo)spa
dc.rights.accessrightsinfo:eu-repo/semantics/openAccessspa
dc.rights.urihttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/*
dc.subjectPulverización catódicaspa
dc.subjectPlasmaspa
dc.subjectRadio frecuenciaspa
dc.subjectAcople electromagnéticospa
dc.subject.keywordSputteringspa
dc.subject.keywordPlasmaspa
dc.subject.keywordRadio frequencyspa
dc.subject.keywordElectromagnetic couplingspa
dc.subject.lembIngeniería electrónica - Tesis y disertaciones académicasspa
dc.subject.lembPulverización catódica (Metalización)spa
dc.subject.lembImpedancia (Electricidad)spa
dc.subject.lembDistribución de energía eléctricaspa
dc.titleImplementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering Rfspa
dc.title.titleenglishImplementation of a supervision and control system for an impedance coupling unit between a Rf source and a discharge plasma for a Rf sputtering processspa
dc.type.coarhttp://purl.org/coar/resource_type/c_7a1fspa
dc.type.degreeCreación o Interpretaciónspa
dc.type.driverinfo:eu-repo/semantics/bachelorThesisspa

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