Implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering Rf
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Resumen
Description of the implementation process of a supervision and control system of the coupling unity between a RF source and a discharge plasma for a sputtering RF process, using Labview.
Descripción
Descripción del proceso de implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople entre una fuente RF y un plasma de descarga para un proceso de pulverización catódica, sputtering RF.
Palabras clave
Pulverización catódica, Plasma, Radio frecuencia, Acople electromagnético