Implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering Rf

Puerto Leguizamón, Gustavo AdolfoJiménez Borrego, Luis CamiloFuentes Gamboa, Camilo AndresSerrato Pinzón, Dilan Gabriel2018-01-252018-01-252017-11-21http://hdl.handle.net/11349/7375Descripción del proceso de implementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople entre una fuente RF y un plasma de descarga para un proceso de pulverización catódica, sputtering RF.Description of the implementation process of a supervision and control system of the coupling unity between a RF source and a discharge plasma for a sputtering RF process, using Labview.pdfspaAtribución-NoComercial-SinDerivadas 4.0 Internacionalhttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0/Pulverización catódicaPlasmaRadio frecuenciaAcople electromagnéticoImplementación de un sistema de supervisión y control de una unidad de acople de impedancias entre una fuente Rf y un plasma de descarga para un proceso de sputtering RfIngeniería electrónica - Tesis y disertaciones académicasPulverización catódica (Metalización)Impedancia (Electricidad)Distribución de energía eléctricainfo:eu-repo/semantics/openAccessImplementation of a supervision and control system for an impedance coupling unit between a Rf source and a discharge plasma for a Rf sputtering processSputteringPlasmaRadio frequencyElectromagnetic couplingCreación o InterpretaciónAbierto (Texto Completo)